02
2026
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科瑞色谱再发新成果！电子级四氯化硅痕量杂质分析论文正式发表
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近日，由辽宁科瑞色谱技术有限公司技术团队撰写的论文《气相色谱法分析电子级四氯化硅中痕量杂质》，在行业专业期刊正式刊发。该研究针对半导体及光纤通信领域关键基础材料——电子级四氯化硅（SiCl₄） 的质量控制难题，提出了一种快速、准确的气相色谱分析方法。
四氯化硅作为芯片制造与光纤预制棒生产中的核心原料，其纯度直接影响下游产品的性能与良率。然而，该物质易水解、腐蚀性强，且要求检测的杂质包括永久性气体及多种氯硅烷副产物，常规方法难以满足 ppb级（十亿分之一） 的检测需求。
此次论文的发表，不仅展示了科瑞色谱在高纯电子特气分析领域的技术积累与创新能力，也为国内半导体材料质量控制提供了一套可靠的分析技术方案。
论文全文如下：
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