2025

科瑞色谱荣获全国特气年会优秀论文奖，发布电子级四氯化硅痕量分析新方案

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　　11月17日-11月19日，全国特种气体信息总站成立四十周年纪念大会暨第二十七次全国特种气体年会在武汉圆满落幕。本次大会云集了国内特气行业近四百位专家学者与产业同仁，围绕 “新形势下中国半导体产业发展”、“标准物质申报”、“电子气体应用与前沿创新”等核心议题展开了深度分享与讨论。辽宁科瑞色谱技术有限公司受邀参会，并在大会上大放异彩——我司发表的论文《气相色谱法分析电子级四氯化硅中痕量杂质》荣获“优秀论文三等奖”！

　　这一荣誉不仅是行业专家对科瑞色谱技术研发能力的权威认可，更是对我们在电子特气这一前端分析领域所做贡献的充分肯定。

　　攻坚行业痛点：电子特气的“纯净之战”

　　在半导体与芯片制造向纳米级工艺持续突破的背景下，电子特气堪称流淌在芯片制造中的“血液”，其纯度直接决定了器件性能的优劣。四氯化硅（SiCl₄）正是半导体制造与光纤通信领域不可或缺的核心原料。

　　然而，其应用价值与纯度正相关，即便是ppb级（十亿分之一）的痕量杂质，也可能导致芯片良品率骤降，甚至造成整批产品失效。传统分析方法在应对复杂杂质时往往力有不逮，建立更精准、高效的分析方法是保障特气质量与产业安全的迫切需求。

　　科瑞方案：精准洞察ppb级杂质的“火眼金睛”

　　科瑞色谱本次获奖的论文，正是直面上述行业挑战，提出了一套完整的创新解决方案。技术核心：GS2010气相色谱仪 + 脉冲放电氦离子化检测器（PDHID）

　　我们的方案采用了我司GS2010气相色谱仪，并创新性地搭载了超高灵敏度的脉冲放电氦离子化检测器（PDHID）。该检测器对所有物质均有响应，灵敏度极高，是完成此次痕量分析任务的关键。

　　方法创新：多柱多阀联动，破解分离难题

　　面对四氯化硅中永久性气体和氯硅烷杂质共存的复杂体系，我们设计了“多柱多阀”联动的智能气路系统，通过十通阀进样与反吹、六通阀进样与中心切割等精密控制，实现了：
将大量主成分四氯化硅快速放空，避免其掩盖痕量杂质信号。让不同性质的杂质“各行其道”，进入不同的色谱柱进行精准分离。

　　最终，我们成功在同一套系统上，一次性完成了对氢气、氧气、氮气、甲烷、一氧化碳以及一氯氢硅、二氯氢硅、三氯氢硅等ppb级杂质的全面分析。

　　良好性能：从ppm到ppb的精度飞跃

　　经过严格的方法验证，本方案展现出良好的性能：
　　精密度高：重复测试的相对标准偏差（RSD）小于3%，结果稳定可靠。
　　检出限低：将多种关键杂质的检出限从行业传统的ppm级（百万分之一）提升至ppb级，最低可达2 ppb，实现了数量级上的突破。

　　清晰的谱图直观展示了各杂质组分达到了完全分离，证明了方法的有效性。

　　为什么科瑞能屡破难题？
　　科瑞色谱自2002年成立以来，始终专注于气相色谱技术的深耕。2007年，中科院大连化学物理研究所国家色谱中心的7位专家加入科瑞，为我们打造了一支经验丰富、技术过硬的核心团队。

　　我们秉承 “精益求精，一丝不苟” 的企业理念，坚持博采众长、不断创新。正是这份对技术的执着与沉淀，让我们有能力在电子特气国产化的浪潮中，以自主的分析技术智慧，为保障民族工业的供应链安全贡献力量。

　　如果您正面临电子特气或高纯气体中的痕量杂质分析难题，科瑞色谱愿成为您可靠的技术后盾。

　　欢迎垂询免费方法开发与样品测试！

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